低溫等離子廢氣處理設(shè)備低溫等離子廢氣處理設(shè)備的技術(shù)機(jī)理的技術(shù)機(jī)理：

    等離子體去除惡臭是通過(guò)兩個(gè)途徑實(shí)現(xiàn)的：個(gè)是在高能電子的瞬間是高能量作用下，打開(kāi)某些有害氣體分子的化學(xué)鍵，使其直接分解成單質(zhì)原子或無(wú)害分子；另個(gè)是在大量高能電子、離子、激發(fā)態(tài)粒子和氧自由基、氫氧自由基（自由基因帶有不成對(duì)電子而具有很強(qiáng)的活性）等作用下的氧化分解成無(wú)害產(chǎn)物。主要有下面幾個(gè)過(guò)程：

    1、在高能電子作用下，強(qiáng)氧化性自由基O、OH、OH2的產(chǎn)生；

    2、有機(jī)物分子受到高能電子碰撞被激發(fā)，及原子鍵斷裂形成小碎片基團(tuán)和原子；

    3、O、OH、HO2與激發(fā)原子、有機(jī)物分子、廢氣處理公司破碎的基團(tuán)、其他自由基等發(fā)生系列反應(yīng)，有機(jī)物分子終被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的高低與電子能量和有機(jī)物分子結(jié)合鍵能的大小有關(guān)。