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產品簡單介紹

真空鍍膜超純水/超純水設備/工業超純水機

真空鍍膜超純水設備主要用途：電子電力行業用水，半導體行業，太陽能光伏行業（單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃），磁性材料用水，超純材料用水，清洗用水，清洗機配套用水，超純化學試劑

電鍍純水/電鍍純水設備/RO純水設備

電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下純水來清洗，

水性涂料純水設備/反滲透純水設備/雙極反滲透設備

水性涂料是指用水作為溶劑或者分散劑的涂料，一般的的自來水或者井水是滿足不了水性涂料生產的需求的，水質不好對產品質量性能影響很大，所以需要對原水進行處理成純水的標準才能使用

光學鏡片超純水/光學鏡片清洗超純水/超純水設備

鏡片清洗用超純水設備主要采用當今技術—雙級反滲透膜分離技術，有效去除水中各種鹽類及雜質，設備采用全自動控制系統，具有產水穩定、操作簡單、運行費用低、綠色環保等優點。針對鏡片清洗行業，生產的超純水設

電鍍純水/電鍍純水設備/RO純水設備

電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水，

電鍍行業純水設備/一級反滲透設備/二級反滲透設備

電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水

多晶硅超純水/多晶硅用超純水/超純水設備

硅材料――因其具有耐高溫和抗輻射性能較好，特別適宜制作大功率器件的特性而成為應用最多的一種半導體材料，目前的集成電路半導體器件大多數是用硅材料制造的。現在，我們的生活中處處可見“硅”的身影和作用，晶

酒店純水設備/酒店軟化水設備/RO純水設備

提高酒店服務質量 使酒店所有飲用水的TDS值低于40(TDS值代表污染指數，世界衛生組織規定，飲用水的TDS值應小于40)，提高酒店服務質量。

化工純水設備/化工行業用純水/純水機/純水系統

化工工業用水是指化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品、電鍍、電池(蓄電池)制造過程工藝純水，紡織印染工藝所需的軟化水及除鹽純水。

實驗室超純水/純化水設備/EDI超純水設備

實驗室超純水設備是一種去離子水設備，通過反滲透、電滲析器、離子交換器、[EDI等方法去除水中陰陽離子的水處理裝置。