制藥廠氣體處理設備的簡單介紹

制藥廠氣體處理設備的詳細信息

、光催化氧化是在外界可見光的作用下發生催化作用,光催化氧化反應是以半導體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O。本公司采用的半導體是目前反應效率最高的納米TiO2光催化劑,經過特殊處理后使用,達到理想效果。
2、在光催化氧化反應中，通過高能光照射在納米TiO2光催化劑上產生電子空穴對，與表面吸附的水份（H2O）和氧氣（O2）反應生成氧化性很活波的羥基 自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2-、0-）。能夠把各種廢臭氣體如醛類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物及其它VOC類有機物、無機物在光催化氧化 的作用下還原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它無毒無害物質,同時具有除臭、消毒、殺菌的功效，由于在光催化氧化反應過程中無任何添加劑，所以 不會產生二次污染。
3、光催化氧化的特點：

（1）光催化氧化適合在常溫下將廢臭氣體完全氧化成無毒無害的物質，適合處理高濃度、氣量大、穩定性強的有毒有害氣體。

（2）有效凈化徹底：通過光催化氧化可直接將空氣中的廢臭氣體完全氧化成無毒無害的物質，不留任何二次污染。

（3）綠色能源：光催化氧化利用人工紫外線燈管產生的真空波紫外光作為能源來活化光催化劑，驅動氧化—還原反應，而且光催化劑在反應過程中并不消耗，利用空氣中的氧作為氧化劑，有效地降解有毒有害廢臭氣體成為光催化節約能源的最大特點。

機物如三氯甲烷、四氯化炭、六氯苯、都能有效地加以分解，所以對難以降解的有機 物具有特別意義，光催化的有效氧化劑是羥基自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2-、0-），其氧化（4）氧化性強：半導體光催化具有氧化性強的特點，對臭氧難以氧化的某些有性高于常見的臭氧、雙氧水、高錳酸鉀、次氯酸等。

（5）廣譜性：光催化氧化對從烴到羧酸的種類眾多有機物都有效，即使對原子有機物如鹵代烴、染料、含氮有機物、有機磷殺蟲劑也有很好的去除效果，只要經過一定時間的反應可達到完全凈化。

（6）壽命長：在理論上，光催化劑的壽命是無限長的，無需更換。

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