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我國12英寸PECVD設備實現國產化

作者: 2016年04月20日 來源: 瀏覽量:
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沈陽拓荊科技有限公司承擔的“十一五”科技重大專項“90-65nm等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備研發與應用”項目15日通過國家重大專項辦公室驗收,標志著我國12英寸PECVD設備實現國產化,填

  沈陽拓荊科技有限公司承擔的“十一五”科技重大專項“90-65nm等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備研發與應用”項目15日通過國家重大專項辦公室驗收,標志著我國12英寸PECVD設備實現國產化,填補了國內空白,打破了國際壟斷,提升了我國集成電路產業整體競爭力。

  PECVD是芯片制造的4種最重要設備之一,一條投資70億美元的芯片制造生產線,需用約5億美金采購100多臺PECVD設備。其核心技術是利用等離子體增強化學氣相沉積法,在硅晶片表面鍍一層固態薄膜。該技術完全被美日等少數發達國家壟斷,設備進口受到嚴格限制。

  “90-65nm PECVD設備”是用于12英寸芯片生產線的專用設備,是當今國際主流薄膜沉積設備。沈陽拓荊科技有限公司前身為中科院沈陽科學儀器股份有限公司PECVD事業部,2010年成立獨立公司,由“千人計劃”專家姜謙帶領團隊,專項研制12英寸PECVD設備。幾年來相繼攻克了設備平臺設計、薄膜工藝開發、薄膜均勻性控制等關鍵技術,產品通過國內12英寸集成電路生產線考核驗收,各項指標達到國際水平,成本為國際設備的70%。目前設備已銷售至中芯國際、蘇州晶方、武漢新芯、華天科技等企業,產品及服務得到用戶的一致認可。

  通過項目的實施,拓荊公司申請專利300項,建立技術標準9項,形成了5項新產品,推動子系統供應商發展相關技術及產品國產化率達到70%。

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